Sobre l'objectiu de titani d'alt rendiment per a PVD
Titanium Sputtering Target és una mena de producte de titani amb una pel·lícula de recobriment de ruixat prim. La puresa és el punt clau per al rendiment del recobriment de titani, com més gran és la puresa, millor serà la resistència a la corrosió i les propietats elèctriques i òptiques de la pel·lícula espantada de titani. Els objectius de titani tenen una àmplia aplicació per a dispositius de semiconductors (pel·lícula dipitada oxidada a TiO2 com a divisor de feixos o aïllant), vidre d’arquitectura, PV/solar, decoració, òptica, aplicacions de recobriment PVD. A Energy Titanium, proporcionem objectius de titani de colada o forja, fets de barra o placa de titani i finalment màquina CNC, ajudant a augmentar la funcionalitat en una àmplia gamma d’aplicacions de recobriment. Els nostres objectius són produïts per un titani d’alta puresa amb una estructura fina i uniforme, comeses en la baixa mida de partícules en tota la seva vida útil.
Els requisits per a objectius de sputtering són superiors als de la indústria de materials tradicionals. Generalment, els requisits inclouen la mida, la plana, la puresa, el contingut de diverses impureses, la densitat, N/O/C/S, la mida del gra i el control de defectes. Els requisits més alts o especials inclouen: rugositat superficial, valor de resistència, uniformitat de la mida del gra, uniformitat de composició i estructura, contingut i mida de substàncies estrangeres (òxids), permeabilitat magnètica, ultra - alta densitat i ultra - grans de grans, etc. El muntatge de magnetrons de muntatge és un nou tipus de mètode de fase de vapor físic. Utilitza un sistema d’armes d’electrons per emetre i centrar els electrons en el material a recobrir, de manera que els àtoms espatllats segueixen el principi de conversió d’impuls i volen allunyar -se del material amb alta energia cinètica per dipositar i formar una pel·lícula al substrat. El material que s’ha de xapar s’anomena objectiu de sputtering. Els objectius de sputtering inclouen metalls, aliatges, compostos ceràmics, etc.
Aplicació a l'objectiu de titani d'alt rendiment per a PVD
Els objectius de sputtering s’apliquen principalment a les indústries d’electrònica i informació, com ara circuits integrats, emmagatzematge d’informació, pantalles de cristall líquid, memòria làser, dispositius de control electrònic, etc. També es pot aplicar al camp del recobriment de vidre. També es pot aplicar a indústries com el desgast - Materials resistents, la resistència a la corrosió de la temperatura alta - i els productes decoratius alts -.
El principi de Sputtering de Magnetron:
S’aplica un camp magnètic ortogonal i un camp elèctric entre l’objectiu espatllat (càtode) i l’ànode. El gas inert requerit (normalment gas AR) s’omple en una cambra alta al buit. Un imant permanent forma un camp magnètic de 250 a 350 Gauss a la superfície del material objectiu, que, juntament amb el camp elèctric de tensió alta -, forma un camp electromagnètic ortogonal. Sota l’acció d’un camp elèctric, el gas AR ionitza en ions i electrons positius. S'aplica una certa tensió negativa a l'objectiu.
Els electrons emesos de l’elèctrode objectiu estan afectats pel camp magnètic, augmentant la probabilitat d’ionització amb el gas de treball. Un plasma de densitat alta - es forma a prop del càtode. Sota l’acció de la força de Lorentz, els ions AR s’acceleren i volen cap a la superfície objectiu, bombardejant la superfície objectiu a una velocitat molt alta. Els àtoms que es desprenien de l'objectiu segueixen el principi de conversió de moment i volen lluny de la superfície objectiu amb una energia cinètica més elevada cap al substrat per dipositar i formar una pel·lícula. El sputtering de magnetrons es divideix generalment en dos tipus: espatllament afluent i espoliació de freqüència de ràdio. Entre ells, el principi dels equips de sputtering tributari és senzill, i la seva velocitat també és ràpida quan es desplaça metalls. L’àmbit d’aplicació de la freqüència de ràdio és encara més àmplia. A més de materials conductors de sputtering, també pot espatllar materials conductors no -. Al mateix temps, es pot utilitzar per a la ramaderia reactiva per preparar materials compostos com òxids, nitrurs i carburs. Si augmenta la freqüència de la freqüència de ràdio, es converteix en sputtering de plasma de microones. El tipus utilitzat habitualment és la ressonància de la ressonància del ciclotró (ECR) de microones.
Els objectius de titani d’alt rendiment s’utilitzen en semiconductor, informació electrònica, exhibició de deposició de vapor físic (PVD), deposició de vapor químic (CVD) i aplicacions òptiques.
Productes aparador d’objectius de titani d’alt rendiment
Objectius de titani d’alt rendiment
Objectius de titani mecanitzat de precisió
Objectius de sputter de titani d'alta puresa
Objectius de titani en accions en venda
Procés de fabricació d’objectius de titani d’alt rendiment
El procés de fabricació d’objectius de titani consisteix en diverses tècniques de forja, incloses, però no limitades com a forja de matrius obertes, forja de matrius tancades, forja lliure i forja isotèrmica.
La selecció d’aquests processos depèn del tipus d’aliatge de titani, de la complexitat dels components requerits i dels requisits de l’aplicació final. Durant el procés de forja, el control precís de la temperatura i la taxa de deformació és de vital importància per assegurar l'estructura i el rendiment de micro-.
La inspecció de qualitat dels objectius de titani d’alt rendiment
(1) Forma i mida geomètrica
Les dimensions externes dels objectius de titani s’inspeccionen generalment amb eines de mesura com ara governants d’acer, pinces i plantilles. El complex - Els forjaments en forma de matriu es poden inspeccionar amb precisió mitjançant el mètode d'escriptura.
(2) Qualitat superficial
Si hi ha esquerdes, dents o defectes de plegament a la superfície dels objectius, generalment es poden detectar per l’ull nu. De vegades, quan les esquerdes són molt petites i es desconeix la profunditat dels plecs, es pot tornar a observar després que la pala s’esborri. La detecció de defectes es pot utilitzar per a la inspecció quan sigui necessari.
(3) Organització interna
Tant si hi ha esquerdes, inclusions, porositat i altres defectes dins dels objectius es poden comprovar per l’ull nu o amb una lupa de 10 a 30 vegades a l’estructura macroscòpica de la secció de forja -. El mètode utilitzat habitualment en la producció és la inspecció de gravat àcid. És a dir, les mostres es tallen de les parts de les dianes que cal inspeccionar, i els defectes de microstructura macroscòpics de la secció creuada - es poden mostrar clarament gravant amb solució àcida, com ara la distribució de la línia de flux, les esquerdes i les inclusions, etc.
(4) Examen metalogràfic
El mètode d’inspecció d’observació de la microestructura de la superfície de la fractura dels objectius amb l’ajuda d’un microscopi metalogràfic pot comprovar ítems com la distribució de carbur, la mida del gra i la profunditat de descarburització.
(5) Propietats mecàniques
Els principals articles d’inspecció de propietats mecàniques són la duresa, la resistència a la tracció i la duresa d’impacte. De vegades, segons els requisits de disseny de les parts, proves de flexió en fred, proves de fatiga, etc. també es poden dur a terme.
De vegades, els articles d’inspecció de qualitat anteriors s’adopten respectivament segons els requisits de disseny i la situació real de producció, de vegades s’inspecciona cada peça una per una i, de vegades, cada lot de forjadors està marcat -. Mitjançant la inspecció de qualitat, es pot determinar si la forja està qualificada. Per a objectius defectuosos, s’han d’analitzar les causes i s’han de proposar mesures per prevenir els defectes.
Etiquetes populars: Objectiu de titani d’alt rendiment per a PVD, Target de titani d’alt rendiment per a fabricants de PVD, proveïdors, fàbrica
